HemNyheterTillverkningHuawei gör EUV-framsteg för kinesisk tillverkning på 5 nanometer och nedåt

Huawei gör EUV-framsteg för kinesisk tillverkning på 5 nanometer och nedåt

Kinas mål mot självförsörjning av halvledare går bland annat genom Huawei, som arbetar på inhemska EUV-maskiner.

Under hösten har USA infört storskaliga restriktioner som med närmast kirurgisk precision ämnar att skjuta Kinas förhoppningar om självförsörjning inom halvledare i sank. En viktig del i detta är att nederländska ASML inte får leverera litografiverktyg som använder sig av extreme ultraviolet (EUV) till Kina, vilket innebär ett tvärstopp i att ta fram kretsar med spjutspetsteknik på hemmaplan.

Nu framgår att Huawei i mitten av november gjort en patentansökan på en EUV-maskin, detta rapporterar taiwanesiska United Daily News (UDN). Patentet som lämnats in till Kinas patentverk, China National Intellectual Property Administration, beskriver en EUV-skanner och dess huvudkomponenter. Detta inkluderar en ljuskälla för EUV med en våglängd på 13,5 nanometer och en uppsättning speglar, som används för att koncentrera ljuset.

I dagsläget har ASML monopol på EUV-maskiner, vilket helt enkelt beror på att de är ensamma i världen om att kunna tillverka sådana. För att komma dit krävdes investeringar på 6 miljarder USD och tekniken försenades i omgångar under ett decennium. Totalt låg utvecklingstiden på 17 år innan de första maskinerna kunde börja säljas och användas för skarp produktion, där TSMC och Samsung var två av de första kunderna.

Ett problem som uppmärksammades längs vägen var att ta fram en tillräckligt kraftfull EUV-ljuskälla. ASML genererar denna genom att släppa droppar av smält tenn med en diameter om 25 mikrometer (0,025 millimeter), som sedan träffas av lågintensiva laserpulser för att plattas till i luften. Detta följs av en kraftfull laserpuls som förångar tennet och skapar plasma som genererar EUV-ljus. För att generera tillräckligt med ljus upprepas processen 50 000 gånger i sekunden.

Bild: ASML

Till följd av den låga våglängden på 13,5 nanometer, vilket nästan är på röntgennivå, var en annan stor utmaning att koncentrera EUV-ljuset. För att få till detta krävs en rad speglar som minst sagt ska beskrivas som reflektiva och linser från Carl Zeiss, vilka enligt uppgift tar uppemot 12 månader att tillverka. Det är inte utan fog som ASML:s EUV-maskiner beskrivs som de svåraste maskinerna i världen att tillverka.

Som konsekvens av att Kina får allt svårare att inhandla verktyg från utlandet kraftsamlar staten för att kunna tillverka dessa på hemmaplan. Här är Huawei tillsammans med Kinas största kontraktstillverkare Semiconductor Manufacturing International Company (SMIC) avgörande. Sedan Huawei själv blev svartlistad av USA har bolaget arbetat på ett bygga upp sin egen förmåga inom tillverkning, med alltifrån ett helomfattande ekosystem till fabriker för faktisk produktion av kretsar – av allt att döma både i egen regi och i samarbete med SMIC.

Huawei är ett av världens största teknikföretag med om omsättning runt 100 miljarder USD årligen och är troligen en av få som skulle kunna lyckas med bedriften att ta fram EUV-maskiner för kinesiskt bruk. Med tanke på svårigheterna ASML mötte är det dock högst osannolikt att Huawei har ett svar i närtid, vilket kan innebära att Kina på överskådlig framtid är fast med 7 nanometer som sin mest avancerade tillverkningsteknik.

Jacob Hugosson
Jacob Hugosson
Chefredaktör och medgrundare av Semi14. Datornörd som med åren utvecklat en fallenhet för halvledarbranschen. Har sedan 2008 år skrivit för tidningar i print och online, hos vilka han verkat som alltifrån chefredaktör till community manager.
Relaterade artiklar
Annons

Läs också