Den nederländska litografimakaren ASML varnade i samband med sin första kvartalsrapport för 2025 om osäkra tider till följd av USA:s nyckfulla handels- och tullpolitik, vilket enligt bolagets VD Christophe Fouquet gör det svårt att sia om räkenskaperna för 2025 och 2026. På den positiva sidan nämns en 46-procentig ökning i omsättning på årsbasis och att ASML levererat sin femte scanner av High-NA EUV-typ.
Our conversations so far with customers support our expectation that 2025 and 2026 will be growth years. However, the recent tariff announcements have increased uncertainty in the macro environment and the situation will remain dynamic for a while.
– Christophe Fouquet, Ordförande och VD på ASML
Fouquet har hittills väntat sig tillväxt de kommande åren, men osäkerheten kring tullarna i en ”makroekonomisk miljö” gör att han istället väntar sig en ”dynamisk situation under en period” – ett extra krångligt sätt att säga ”hela havet stormar”. I övrigt finner ASML en minskande orderingång från Kina på minuskontot och en 16,4-procentig minskning i omsättning på kvartalsbasis, ned från 9,3 miljarder till 7,7 miljarder euro.
Digitimes noterar att bolagets finanschef Roger Dassen väntar sig att bolagets omsättning fortsatt kommer gå starkt i närtid, då tidigare nämnda High-NA EUV-scanners rullas ut till kunder. Dessa maskiner är nästa generations EUV-utrustning med prislappar i storleksordningen 300–400 miljoner USD styck – med baksidan att marginalerna med High-NA med ASML-mått mätt är relativt små. Segmentet väntas i närtid alltså inte generera någon ”nämnbar” vinst för bolaget, trots det höga priset per enhet.
ASML:s bruttomarginal har under 2024 års avslutande kvartal och 2025 års inledande dito gått från 51,7 till 54,0 procent. När Dassen blickar framåt mot årets andra kvartal väntas siffran landa i intervallet 50–53 procent med en omsättning om cirka 7,2–7,7 miljarder euro. Av dessa kommer 1,2 miljarder investeras i forskning och utveckling (FoU) – och för helåret väntas bolagets omsättning landa på 30–35 miljarder med en bruttomarginal på 51–53 procent.
Tre kunder har nu totalt fem stycken High-NA EUV-maskiner i drift – TSMC, Intel och Samsung. High-NA EUV-tekniken gör det möjligt att med högre upplösning än första generationens EUV och DUV exponera finare mönster på kisel. Det i sin tur gör möjliggör relativt kostnadseffektiv produktion av kretsar i 2-nanometersklassen och mindre, där Intel ryktas vara först ut med High-NA EUV i massproduktion på sin 1,8-nanometersprocess Intel 18A.
