HemNyheterTillverkningSamsung vänder sig till koreanska membran i jakt på bättrad produktion

Samsung vänder sig till koreanska membran i jakt på bättrad produktion

Den koreanska maskspecialisten S&S Tech uppges inleda produktion av världens bästa EUV-membran inom kort, med Samsung som kund.

Att modern kretstillverkning med tillhörande maskineri i det närmaste är svartkonst är inget nytt. Den senaste generationens litografimaskiner nyttjar EUV-ljus (extrem ultraviolett) med en våglängd om 13,5 nanometer och krävs för att framställa transistorer i 5-nanometersklassen och mindre. En enda EUV-scanner från nederländska ASML kostar i runda slängar 150 miljoner dollar, och cirka 55 sådana maskiner producerades år 2022.

Nu rapporterar branschtidningen Digitimes att Samsung, vars tillverkning på 3 nanometer sedan starten uppgetts lida av bedrövlig yield, ger sig i kast med att förbättra en del av EUV-processen. Bolaget S&S Tech, som Samsung köpte en 8-procentig andel av år 2020, uppges stå klara att inleda massproduktion av EUV-membran, pellicles, vilka har en ljusöverföringskvot om 90 procent.

S&S Tech uppges sikta på en kvot om 94 procent för att möta Samsungs krav, och blir av allt att döma de EUV-membran med bäst specifikationer i nuläget. Membranens roll är att skydda litografimaskerna som används vid produktion, vars prislappar kan uppgå till 300 000 USD styck, och för EUV-bruk behöver dessa vara tunnare än ljusets våglängd – 13,5 nanometer. Dessutom får de inte blockera just UV-ljus.

A super-thin membrane, 13 nanometers thick, that lets through extreme ultraviolet (EUV) light whereas most substances absorb it, and that can withstand temperatures of up to 500 degrees Celsius in a high-vacuum environment? It seems unfathomable that this delicate, shimmering film could be so robust, but it is.

– ASML om sina EUV-membran

Ingen av EUV-maskleverantörerna ska i dagsläget tillverka ett membran med över 90 procent ljusgenomsläpp. ASML ska ha demonstrerat prototyper som nått 90,6 procent, och forskningsinstitutet Imec ska å sin sida ha visat upp prototyper baserade på kolnanorör med ett ljusgenomsläpp om 97,7 procent, enligt Semiengineering.

Trots detta uppges TSMC ha en ungefär 80-procentig yield på 3 nanometer, medan Samsung för närvarande uppges ha problem att nå över 20 procent. Skillnaden de två bolagen emellan är istället transistortypen, där TSMC fortsatt med den nu traditionella FinFET-typen, medan Samsung tog steget till GAAFET.

Hur stor förbättring i yield Samsung kan frambringa med S&S Tech-membranen återstår att se, men de ser med största sannolikhet inte ut att vara bolagets största produktionstekniska problem i dagsläget. Förutom stora investeringar i S&S Tech uppges Samsung också ha investerat i FST för att diversifiera sitt utbud av EUV-relaterade leverantörer.

KällaDigitimes
Jonas Klar
Jonas Klar
Ansvarig utgivare och medgrundare av Semi14. Började skruva med elektronik år 2003 och inledde därefter skribentkarriären med att skriva om datorkomponenter år 2005. Har på senare år intresserat sig allt mer för affärerna och forskningen i halvledarbranschen.
Relaterade artiklar
Annons

Läs också