Den kinesiska regeringen är i tagen med att demonstrera inhemsk litografiutrustning kapabel till kretstillverkning på 65 nanometer, kort efter att Nederländerna belagt ASML med exportförbud på ytterligare utrustning samt service av dessa. Specifika detaljer om de nya kinesiska maskinerna är oväntat detaljerade – modellerna är två till antalet, av DUV-typ (deep ultraviolet) och har våglängderna 193 respektive 248 nanometer, rapporterar South China Morning Post.
Upplösningen under 65 nanometer som kan nås med UV-strålning med våglängden 193 nanometer möjliggör tillverkning av kretsar i 65-nanometersklassen. Det är ett steg upp från den utrustning kinesiska SMEE (Shanghai Microelectronics Equipment) idag är kapabla att tillverka, som klarar av kretsar med transistorer om 90 nanometer. Den andra scannern ska istället vara lämpad för tillverkning på 110 nanometer, medan båda använder argonfluorid (ArF) som strålningskälla.
Trots att det kinesiska industri- och informationsministeriet delar med sig av de tekniska specifikationerna på den påstådda utrustningen utelämnas en viktig detalj – tillverkaren av utrustningen. Inte heller uppges datum för när utrustningen görs tillgänglig för kinesiska foundry-bolag. Tom’s Hardware noterar också att ingen information uppges gällande utrustningens kapacitet, där ASML:s DUV-modeller klarar 330 kiselskivor per timme.
Att Kina känner sig nödgat att papperslansera litografiutrustning jämförbar med 10 år gammal ASML-utrustning är rimligen inget annat än ett svar på de USA-ledda sanktioner som gång på gång försöker sätta käppar i hjulen för landets halvledarsatsningar. Redan 2023 demonstrerade statligt ägda SMEE en scanner som skulle vara kapabel att framställa kretsar i 28-nanometersklassen – men sagda maskin har ännu inte satts i massproduktion.
Både ASML såväl som japanska Nikon har utrustning som överträffar det Kina nu har visat upp utan att falla under krav på exportlicenser – men i praktiken är det modern litografiutrustning Kina saknar för att kunna uppnå sitt mål om självförsörjning inom halvledartillverkning.
