HemNyheterHårdvaraHuawei rundar USA:s sanktioner med ny telefon och 7 nanometer

Huawei rundar USA:s sanktioner med ny telefon och 7 nanometer

Efter flera år av ökenvandring har Huawei till slut fått möjligheten att inhemskt tillverka systemkretsar i toppklassen för telefoner.

Kinesiska Huawei designade och lät en gång i tiden tillverka systemkretsar (SoC) i världsklass för mobiltelefoner, och var på god väg att bli världens största telefontillverkare. Bolaget föll dock på målsnöret när USA riktade hårda sanktioner mot företaget, som bland annat förvägrades Googles tjänster i operativsystemet Android och tillverkning av kretsar i spjutspetsen hos TSMC i Taiwan.

På hemmaplan arbetar Huawei nu istället tillsammans med Kinas största kontraktstillverkare Semiconductor Manufacturing International Company (SMIC) för att möjliggör inhemsk tillverkning i spjutspetsen och satsningen ser nu ut att bära frukt. Nyligen lanserade Huawei telefonen Mate 60 Pro med den systemkretsen Kirin 9000S, som enligt analytikerna på Tech Insights är tillverkad på SMIC:s tekniknod N+2. Denna beskrivs ofta som bolagets andra generations 7 nanometer, medan den på annat håll även kallas 5 nanometer.

Intressant nog lyser alla officiella detaljer för Kirin 9000S med sin frånvaro och det enda som är helt bekräftat är att den har 5G-stöd samt är först i världen med förmågan att göra satellitsamtal. Huawei Central som fått tag på en Mate 60 Pro kan dock avslöja att den huserar åtta kärnor – fyra högpresterande om 2 150 MHz, varav en kan gå i upp till 2 620 MHz, och fyra energieffektiva om 1,53 GHz. Dessa har sällskap av en egenutvecklad grafikdel kallad Maleoon 910 i upp till 750 MHz. Klockfrekvenserna sticker ut i att de är omkring 500 MHz lägre än andra systemkretsar på marknaden, vilket skulle kunna ses som en indikation om mognadsgraden för tekniknoden N+2.

Redan för ett år sen bekräftades det att SMIC tillverkade kretsar för brytning av Bitcoin på N+1, bolagets första generations 7 nanometer. Detta skapade en hel del huvudbry då Kina i sin helhet förvägrats import av EUV-litografiska (extreme ultraviolet) verktyg, som blivit allt mer nödvändigt för fortsatt krympning av transistorer. För att komma dit använde SMIC konventionell DUV-litografi (deep ultraviolet) i fler steg, multi-patterning, något även TSMC gjorde med sin första generations 7 nanometer.

Det som brukar kallas 7 nanometer ses ofta som gränsen för vad som är möjligt med DUV, men det påtalas samtidigt att det inte finns några tekniska hinder för att använda multi-patterning i större utsträckning för att nå 5 nanometer. Frågan som bör ställas är snarare om det är ekonomiskt försvarbart då multi-patterning både drar ut på tiden för tillverkning och i regel ger sämre yield.

En annan intressant detalj kring Kirin 9000S som vore minst lika anmärkningsvärd är uppgifter om att det är en chiplet-design där ett okänt antal kretsar staplats ovanpå varandra. Det här är till skillnad från N+2 uppgifter som inte är bekräftade, men om det stämmer vore det ett stort genombrott för SMIC, Huawei och hela Kina att de fått även sådan förmåga inom landets gränser.

Jacob Hugosson
Jacob Hugosson
Chefredaktör och medgrundare av Semi14. Datornörd som med åren utvecklat en fallenhet för halvledarbranschen. Har under 13 år skrivit för tidningar i print och online, hos vilka han verkat som alltifrån chefredaktör till community manager.
Relaterade artiklar
Annons

Läs också