Nano Imprint Lithography, NIL, är Canons vapen i bolagets strävan att bryta nederländska ASML:s monopol på utrustning för tillverkning i spjutspetsen. Till synes från ingenstans presenterade Canon sin första NIL-produkt under oktober, där kostnadseffektivitet var ett av paradnumrena. Att en litografiprocess med NIL drar så lite som tio procent av energin en ASML-scanner med EUV-teknik står klart – men nu meddelar Canon att även inköpspriset blir betydligt lägre.
Till Bloomberg berättar Canons VD Fujio Mitarai nämligen att ”prislappen kommer ha en siffra mindre än ASML:s EUV”, samtidigt som han medger att prissättningen ännu inte är fastställd. Om Mitarais uttalande stämmer kommer Canons NIL-maskiner i värsta fall kunna kosta 99 miljoner USD – vilket är under hälften av vad de 200–300 miljoner ASML:s EUV-scanners betingar.
Prislappen å sin sida är irrelevant om inte Canon kan leverera det bolaget lovar med NIL – som till en början uppges klara av att framställa kretsar i 5-nanometersklassen. I sin färdplan för tekniken räknar Canon med att kunna producera kretsar i 2-nanometersklassen, där enskilda strukturer är så små som 10 nanometer. På just 2 nanometer väntas Intel bli först ut med kommersiell produktion redan år 2024, följt av TSMC under 2025 eller 2026, båda med EUV-utrustning från ASML.
I don’t expect nanoimprint technology to overtake EUVs, but I’m confident this will create new opportunities and demand […] We are already fielding many inquiries from customers.
– Fujio Mitarai, VD, Canon
Fujio Mitarai uttrycker också att han inte väntar sig att NIL kommer överträffa EUV, men att tekniken kommer finna sin plats på marknaden. Intresset från kunder sägs också vara stort, med ”många förfrågningar” – vilket inte är en överraskning på en marknad där priset per transistor för första gången i historien ökar till följd av högre tillverkningskostnader. En stor del av denna ökade tillverkningskostnad kan tillskrivas just ASML:s utrustning, som hittills varit ett absolut krav för tillverkning på 5 och 3 nanometer.
Det är också värt att minnas att Japan är i full färd med att återuppliva sin halvledarsektor, som i flera decennium fört en tynande tillvaro. Så snart som år 2027 ska statligt stödda Rapidus tillverka kretsar på 2 nanometer – med Canons NIL-utrustning kan Japan hastigt och lustigt bli världens enda nation med en komplett leveranskedja för halvledartillverkning i spjutspetsen.
