Canon har levererat sin första litografimaskin av typen Nanoimprint Lithography (NIL) till Texas Institute for Electronics, där utrustningen kommer användas till prototypande och processutveckling för framtida halvledartillverkning. Canon utannonserade under hösten 2023 sin nya NIL-scanner vid namn FPA-1200NZ2C, med siktet inställt på tillverkning av kretsar i 5-nanometersklassen.
Texas Institute for Electronics kommer nu med stöd från University of Texas i Austin och delstatliga institutioner, lokala halvledarbolag och forskningsinstitut se vad Canons nya utrustning går för. Institutet uppges erbjuda öppen tillgång till intressenter i halvledarbranschen och forskar förutom på avancerad tillverkning också på avancerad halvledarpaketering.
Enligt Canon kan NIL utföra samma arbete som ASML:s marknadsdominerande EUV-utrustning (extreme ultraviolet), till endast 10 procent av energiåtgången. Detta är möjligt tack vare avsaknaden av en EUV-ljuskälla, där NIL istället går ut på att ”stämpla” en kretsdesign på en kiselskiva. Förutom att inte behöva använda åtskilliga kilowatt på att förånga tenn och på så vis framställa EUV-strålning klarar NIL också av en krets per ”stämpling” – vilket inte låter sig göras med litografiteknik.
FPA-1200NZ2C uppges vara kapabel till att skapa mönster med linjebredder om 14 nanometer, vilket motsvarar FinFET-transistorer i storleksklassen som av branschen kallas 5 nanometer. Detta är att jämföra med ASML:s EUV-linjer om 13 nanometer, medan den än mer energikrävande efterföljaren High NA-EUV har visat sig god för 9,5 nanometer. Det sistnämnda landar i häraden av vad som väntas kallas 1,4 nanometer av Intel, TSMC och Samsung.
Om Canon och Texas Institute for Electronics lyckas skapa en process för kommersiellt gångbar tillverkning av kretsar med NIL kommer bolaget oavsett ha ett guldläge på marknaden. ASML:s EUV-scanners betingar dryga 200 miljoner USD per enhet och genererar förutom avancerade kretsar också rejäla elräkningar. Canon lär prissätta sin NIL-utrustning för att väga in dess fördelar gentemot EUV – men marknaden lär oavsett välkomna möjligheten att sänka priset per tillverkad kiselskiva i klasserna 7 och 5 nanometer, även om det inte sker förrän mot slutet av 2020-talet.
