Kinesiska bolag samlade under år 2024 och 2025 på sig litografiutrustning av DUV-typ från nederländska ASML till ett värde om 13 miljarder USD, rapporterar South China Morning Post. Totalt ska bolag ha köpt på sig inte mindre än 343 enheter fram till början av 2026, där DUV-scanners importerades i stor skala för att förekomma eventuella hårdare exportrestriktioner på utrustningstypen.
Mot bakgrund av att ASML delvis förlitar sig på amerikanskutvecklad teknik från dotterbolaget Cymer och den amerikanska statens de minimis-regelverk har bolaget aldrig tillåtits exportera EUV-utrustning till Kina. Det tidiga 2020-talets högteknologiska handelskrig har i ökande grad dragit åt svångremmen för export av avancerad utrustning till Kina, där ASML:s mer avancerade DUV-utrustning numera också lyder under försäljningsförbud.
Mer specifikt är export av utrustning för tillverkning av logik ned till 14 nanometer tillåten, med undantagen ASML:s DUV-scanners Twinscan NXT:2000i och NXT:1980i – modeller som förbjöds år 2023 respektive 2024. Trots exportförbuden uppger det nya amerikanska AI-research-organet Center for Technology & Statecraft (CTS) att 270 av nämnda 343 enheter införskaffade under 2024 och 2025 var av just modellen NXT:1980i – vilka utan större bekymmer kan användas för att framställa logik i 7-nanometersklassen.
Nämnvärt är att export av NXT:1980i till Kina fortsatt är möjlig, där den nederländska staten från fall till fall utfärdar licenser på dispens. Rent teknologiskt finns det heller ingen hård linje som gör en DUV-scanner lämplig för logik på 14 nanometer, utan multi-patterning-processer likt Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP) har hjälpt exempelvis minnesbolaget CXMT att nå half-pitch om cirka 12 nanometer på kiselstrukturer – på bekostnad av lägre yield till följd av ökat antal processteg med DUV-litografi.
Rapporten från CTS menar därtill att USA kan behålla sitt ledarskap inom AI-kretsar till ”minst år 2035” om Kina förvägras DUV-utrustning från ASML såväl som japanska Nikon. För att förhindra kinesiskt världsherravälde krävs ”endast” att all export av DUV-scanners stoppas, antingen av Nederländerna eller Japan själva – eller med ekonomiskt våld från amerikanskt håll med regelverket foreign direct product rule (FDPR) eller de minimis-ditot.
Därefter krävs ett totalförbud på service av installerad ASML-utrustning i Kina, något som tidigare lyfts och sedermera skjutits ned genom ett nytt kinesiskt servicecenter i ASML-regi. Den amerikanska staten föreslås även samarbeta med Nederländerna om att förhindra ”diversifiering av existerande DUV-maskinpark” – följt av restriktioner på komponenter och informationsöverföring till Kina som möjliggör utveckling och drift av inhemsk utrustning.
Kinesiska satsningar på inhemsk litografiutrustning bedöms ha låg sannolikhet att kunna producera litografiutrustning kapabel till produktion av kretsar i 7-nanometersklassen till åtminstone mitten av 2030-talet. Detta är en förutsättning för att kunna ersätta existerande utrustning från ASML och eventuella Nikon-scanners, något som skulle lämna fri lejd för ”USA och dess allierade” att dominera AI-marknaden.
ASML och EU föreslås ta kostnaden
Det hela slätas i CTS-rapporten över som en kostnad som ASML ska ta, med hänvisning till att ASML:s orderböcker ”är stora nog för att hålla produktionstakten uppe i månader” efter att ett totalförbud mot försäljning till Kina införts. Den kortsiktiga ekonomiska skadan till ASML beräknas till 1–1,5 miljarder USD i service på den kinesiska marknaden. Att nya fabs kommer uppföras utan Kina, även om Kina tas bort ur ekvationen, attribueras till ett citat från ASML:s tidigare VD Peter Wennink från 2022, där han diskuterade bolagets färdplaner fram till år 2030.
Räknat i total produktionskapacitet presenterar CTS två scenarion. I det första beräknas landets fabs fortsätta kunna importera cirka 90 stycken NXT:1980i-enheter per år, vilket skulle resultera i en total tillverkningskapacitet om 434 miljoner AI-kretsar motsvarande Nvidia H100 år 2035. Om tillgången på litografiutrustning stryps 2027 skulle produktionskapaciteten istället sjunka till omkring 153 miljoner H100-ekvivalenter till samma år.
För att rädda tillgången på billiga kretsar av mindre avancerad typ, den delen av marknaden Kina i det tysta praktiskt taget helt tagit över, föreslås ASML få fortsätta sälja äldre typer av DUV-utrustning. Mer specifikt handlar det om utrustning utan stöd för immersionslitografi där varje litografiexponering sker genom ultrarent vatten för ökad precision snarare än genom luft. DUV-scanners utan stöd för immersion brukades för produktion av logik ned till 65 nanometer, varefter immersionslitografi i ökande grad tog över.
Klart står i alla fall att CTS gärna skulle offra ASML för USA:s bästa – men det sista ordet i sagan är garanterat ännu inte sagt. Washington DC-baserade CTS å sin sida lanserades så sent som under augusti 2026 och säger sig verka för att forma policyrekommendationer på AI-området. Tankesmedjan drivs av tidigare tungviktare inom amerikansk politik som bland annat Saif M. Khan, som haft teknikrelaterade roller under handelsminister Gina Raimondo i den tidigare Biden-administrationen.
